Single Sided Wafer Óxido de Silício Polido em em em Sio2

R$ 79,86

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SKU: 1005005721310908 Categorias: , ,

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Ficha técnica do produto

Características Especificações
Tipo Outros
Origem CN (origem)


Modname = ckeditor

Type1: 4 polegadas camada de óxido 100nm (folha de alta qualidade)

Type2: camada do óxido de 4 polegadas 200nm (folha de alta qualidade)

Type3: 4 polegadas camada de óxido 285nm (folha de alta qualidade)

Type4: 4 polegadas camada de óxido 300nm (folha de alta qualidade)

Type5: 4 polegadas camada de óxido 500nm (folha de alta qualidade)

Type6: 4 polegadas ultra espessura oxidação 1000nm

Type7: placa de oxidação 6 polegadas (espessura oxidação opcional)

Type8: placa da oxidação 2 polegadas (espessura opcional da oxidação)

Type9: 10*10mm óxido camada silício wafer

Type10: 4 polegadas única face bolacha de silício polido

Type11: 4 polegadas Prime grau único face polimento

Type12: Oxidação ultra fina 20-500nm opcional

Type13: 4 polegadas ultra grosso oxidação 2000nm

Tipo14: oxidação ultra grossa 3000nm de 4 polegadas

1. Sio2 Single Sided Wafer Óxido de Silício Polido 2 em 4 em 6 em – Nome da Marca : Bingoelec

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Nome do produto 4 polegadas processo de oxidação térmica camada óxido silício wafer
Modo do crescimento Cristal único Czochralski (CZ)
Diâmetro e tolerância

50,8 milímetros 100 milímetros 150 milímetros ± 0,1 milímetros

Tipo doping Tipo N (dopado com fósforo, arsênico, antimônio) Tipo P (dopado com boro)
Orientação do cristal <111>\<100>\<110>
Resistividade Baixa resistência 0.001-0.005 0.01-0.02 Resistência média 1-5 1-10 10-20 Alta resistência> 10000 (O • cm) 400 opções de parâmetros
Dados do processo Planicidade TIR:< 3µ m. Warpage TTV:< 10µ m. Dobra BOW< 10µ m. Rugosidade <0.5nm, Granularidade <10 (para tamanho> 0.3µ m)
Método do empacotamento Embalagem a vácuo de alumínio ultra limpo com 10 peças e 25 peças
Inventário existente 200 parâmetros do inventário, espessura 100nm da camada do óxido, 200nm, 285nm, 300nm, 500nm, 1000nm, 2000nm
Introdução ao uso

Usado para o revestimento de PVD/CVD como a carcaça, magnetron que sputtering a amostra do crescimento, XRD, carcaça do circuito do processo da litografia, força atômica

Espectro infravermelho, espectro de fluorescência e outros substratos de análise e teste, substratos cultivados por epitaxia de feixe molecular e semicondutores de cristal de análise de raios X

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