Metal cu Copper Target Material Alta Pureza 3n5 4n 5n Materiais para Experimentos de Pesquisa Científica Magnetron Sputtering
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Características | Especificações |
---|---|
USO | Fabricação Comercial |
Cutomizado | SIM |
Número do Modelo | 3N5 |
Tipo | Outros |
Origem | CN (origem) |
Alta pureza 3N5 4N 5N Metal Cu cobre Material alvo materiais para experimentos de pesquisa científica Magnetron Sputtering
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O alvo sputtering do cobre do material do alvo tem principalmente as seguintes características:
1. Excelente condutividade: O cobre é o melhor metal condutor, então alvos de cobre e filmes de cobre também têm a melhor condutividade, geralmente entre 5,0 e 6,0 × 10 ^ 7 S/m, amplamente utilizado para fazer camadas condutoras e eletrodos.
2. Boa resistência à corrosão: O metal de cobre e o filme de cobre têm boa resistência à corrosão à atmosfera, umidade, água e matéria orgânica, e podem ser usados como revestimentos anticorrosivos, mas sua resistência à corrosão a ácidos e álcalis fortes é fraca.
3. Excelentes propriedades mecânicas: O cobre tem alta dureza e resistência, e boa plasticidade. A dureza é geralmente entre 60-150HV e a força é entre 200-500MPa. Então cobre filmes finos também têm excelentes propriedades mecânicas.
4. Magnetismo leve: O cobre é um metal fracamente magnético, então alvos de cobre e filmes de cobre são quase não magnéticos e podem ser usados para fazer peças não magnéticas.
1. Pesquisa Científica Magnetron Sputtering – Posição de Montagem : Espigão de Selim
2. Metal cu Copper Target Material Alta Pureza – Feature10 : Luces para Bicicleta
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