Metal cu Copper Target Material Alta Pureza 3n5 4n 5n Materiais para Experimentos de Pesquisa Científica Magnetron Sputtering

R$ 389,62

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Ficha técnica do produto

Características Especificações
USO Fabricação Comercial
Cutomizado SIM
Número do Modelo 3N5
Tipo Outros
Origem CN (origem)


Alta pureza 3N5 4N 5N Metal Cu cobre Material alvo materiais para experimentos de pesquisa científica Magnetron Sputtering

Personalização do apoio.

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O alvo sputtering do cobre do material do alvo tem principalmente as seguintes características:

1. Excelente condutividade: O cobre é o melhor metal condutor, então alvos de cobre e filmes de cobre também têm a melhor condutividade, geralmente entre 5,0 e 6,0 × 10 ^ 7 S/m, amplamente utilizado para fazer camadas condutoras e eletrodos.

2. Boa resistência à corrosão: O metal de cobre e o filme de cobre têm boa resistência à corrosão à atmosfera, umidade, água e matéria orgânica, e podem ser usados como revestimentos anticorrosivos, mas sua resistência à corrosão a ácidos e álcalis fortes é fraca.

3. Excelentes propriedades mecânicas: O cobre tem alta dureza e resistência, e boa plasticidade. A dureza é geralmente entre 60-150HV e a força é entre 200-500MPa. Então cobre filmes finos também têm excelentes propriedades mecânicas.

4. Magnetismo leve: O cobre é um metal fracamente magnético, então alvos de cobre e filmes de cobre são quase não magnéticos e podem ser usados para fazer peças não magnéticas.

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